マグネトロン スパッタリング (PVD) 技術は、薄膜材料を作製するための重要な技術の 1 つです。高純度チタン スパッタリング ターゲット材料は、マグネトロン スパッタリング プロセスにおける重要な消耗品であり、幅広い市場用途の見込みがあります。-高付加価値コーティング材料であるチタン ターゲット材料には、化学純度、微細構造、性能の点で厳しい要件があり、高度な技術が必要であり、加工が困難です。
マグネトロンスパッタリングチタンターゲット材料は、図1に示すように、集積回路、フラットパネルディスプレイ、およびガラス装飾コーティングやホイールハブ装飾コーティングなどの室内装飾および自動車産業の装飾コーティング分野などの電子および情報産業で主に使用されています。また、異なる業界におけるチタンターゲット材料に対する要件も大きく異なり、主に純度、微細構造、溶接性能、寸法精度などが含まれます。集積回路用のチタンターゲット材料の純度は主に99.995%以上であり、現在は主に輸入に頼っている。フラットパネルディスプレイに使用されるチタンターゲット材料の市場では、液晶ディスプレイ（LCD）市場が90％以上を占め最大規模となっています。 LCD は現在最も有望なフラット パネル ディスプレイ デバイスと考えられています。その出現により、ノートブック コンピュータのディスプレイ、デスクトップ コンピュータのモニター、高精細液晶テレビからモバイル通信に至るまで、ディスプレイの応用範囲が大幅に拡大しました。-さまざまな新しい LCD 製品が人々の生活習慣に影響を与え、世界の情報産業の急速な発展を推進しています。
チタンターゲット材料の純度は、スパッタリング膜の性能に大きな影響を与えます。純度が高くなるほど、スパッタリングされたチタン膜中の不純物元素粒子が少なくなり、耐食性や電気的・光学的特性などの膜性能が向上します。一般に、チタンターゲット材料は多結晶構造をしており、粒径はマイクロメートルからミリメートルの範囲にあります。きめの細かいターゲット材料は、きめの粗いターゲット材料よりもスパッタリング速度が速くなります。-スパッタリング表面上の粒子サイズが類似したターゲットの場合、スパッタリングされた堆積膜の厚さ分布もより均一になります。
